美国全力限制中国发展先进芯片,但华为已成功突围,美媒指出,中芯今年将为华为生产5纳米芯片,而且无需使用ASML的极紫外(EUV)光刻机,令人惊艳。
根据PhoneArena报导,去年中芯7纳米制程让华为大翻身,成功推出5G旗舰手机Mate 60系列,今年中芯再上一层楼,将为华为生产5纳米芯片,此消息让人震惊,因为中国积极想实现半导体自给自足。
《韩国商业报》指出,中芯可能使用被制裁前购买的旧深紫外线(DUV)曝光机制造5纳米芯片,这对中芯和华为都是一件大事,这让华为更接近3纳米制程,将用于制造2025年旗舰手机内的先进晶片。
报导提到,对中国来说,生产5纳米芯片是一件大事,中国寻求实现半导体自给自足。一位业内人士指出,华为设计芯片和中芯制造芯片,让中国「半导体独立」趋势越来越明显。