中国芯片制程设备急起直追 美国还能领先多久？

华盛顿寻求切断北京获得世界一流技术的途径，迫使中国大陆政策规划者开始培育本土高科技生产市场的艰难过程。（示意图）

美国外交政策的主要战略焦点，就是与中国大陆的竞争，华盛顿寻求切断北京获得世界一流技术的途径，迫使中国大陆政策规划者开始培育本土高科技生产市场的艰难过程，特别是在高科技领域端半导体芯片。据中国媒体报导，上海微电子设备（SMEE）已经完善了28奈米深紫外（DUV）光刻机，预计将于今年年底开始使用该技术生产芯片。

据俄罗斯《卫星通讯社》（Sputnik）3日报导，与许多中国大陆尖端科技公司一样，，上海微电子设备因其与中国大陆政府和军方的关联，而被美国商务部列入黑名单，总部位于荷兰的艾斯摩尔（ASML）一直是中国大陆高端芯片的生产设备主要供应商之一，不过，该公司向中国大陆生产商扣留了深紫外光（DUV）技术，并于今年早些时候同意遵守美国的要求，放弃其与中国大陆的高端芯片贸易。完全冲着芯片来。据美国媒体报导，艾斯摩尔还面临美国的额外压力，要求限制进一步向中国发货，包括采用旧芯片型号的生产设备。

除了荷兰之外，日本和台湾也面临了来自美国的要求，削减与中国大陆的芯片贸易的压力。去年，华盛顿突然采取了一项临时禁止与美国有联系的公司在中国大陆境内生产芯片的举措，但在发现这显然会导致整个全球科技市场彻底混乱后，很快又收回了做法。

一位专家表示，这样的禁令将「严重影响」中国大陆供应商，因为中国大陆的光刻机产品与国外最好的光刻机项目之间存在「10多年的差距」。

在无锡市，晶嘉微正在开发图形处理单元（GPU），这是一种对生产手机、电脑和游戏机至关重要的芯片。景嘉微自称是中国大陆最领先的GPU开发商，尽管它远远落后于全球最大GPU制造商美国英伟达（Nvidia）。而华为还申请了极紫外光刻（EUV）专利，该方法用于制造世界上最先进的芯片。