当前位置:首页>资讯 >科技创新>中国芯片制造新突破 研发奈米级光雕刻3D结构

中国芯片制造新突破 研发奈米级光雕刻3D结构

2022-09-15 来源:央视新闻浏览数:39 国际会展网

核心提示:国际顶级学术期刊《自然》14日晚间发表了中国科学家在下一代光电芯片制造领域的重大突破。南京大学张勇、肖敏、祝世宁领衔的科研团队,发明了一种新型「非互易飞秒雷射极化铁电畴」技术,将飞秒脉冲雷射聚焦于材料「铌酸锂」的晶体内部,通过控制雷射移动的方向,在晶体内部形成有效电场,实现三度空间(3D)结构的直写和擦除。

18SZ图片处理

中国科学家首次获得奈米级光雕刻3D结构。 (央视新闻)

央视新闻用户端15日报导,国际顶级学术期刊《自然》14日晚间发表了中国科学家在下一代光电芯片制造领域的重大突破。南京大学张勇、肖敏、祝世宁领衔的科研团队,发明了一种新型「非互易飞秒雷射极化铁电畴」技术,将飞秒脉冲雷射聚焦于材料「铌酸锂」的晶体内部,通过控制雷射移动的方向,在晶体内部形成有效电场,实现三度空间(3D)结构的直写和擦除。

报导称,这一新技术,突破了传统飞秒雷射的光衍射极限,把光雕刻铌酸锂3D结构的尺寸,从传统的1微米量级(相当于头发丝的1/50),首次缩小到奈米级,达到30奈米,大大提高了加工精度。

这一重大发明,未来或可开辟光电晶片制造新赛道,有望用于光电调制器、声学滤波器、非易失铁电记忆体等关键光电器件晶片制备,在5G/6G通讯、光计算、人工智能等领域有广泛的应用前景。

打赏
0相关评论
阅读上文 >> 深圳力争2025年建成具国际影响力金融科技中心城市
阅读下文 >> 全球货币紧缩达到五十年来最大 世行料经济衰退在所难免

大家喜欢看的

  • 品牌
  • 资讯
  • 展会
  • 视频
  • 图片
  • 供应
  • 百科
  • 商城

欢迎转发与合作:


本文地址:http://www.18sz.com/news/show.php?itemid=14415

转载本站原创文章请注明来源:国际会展网

行业专题

更多行业专题

微信“扫一扫”
即可分享此文章

友情链接

  • 关注官方订阅号

  • 关注官方服务号

Copyright© 2003-2022 18SZ.com 18SZ B2B SYSTEM All Rights Reserved

服务热线:+86 755 88850315 ICP备案号: