艾司摩尔CEO：中国独立开发顶尖光刻机至少需要10年

荷兰光刻机巨头艾司摩尔对中国出口设备仍未获得政府许可。该公司CEO彼得．温尼克表示，中国若要独立开发制造顶极光刻机的技术，至少需要10以上的时间。图为ASML的EUV光刻机。 （图／路透）

中国最近几年积极发展晶片产业，但在人才与技术上遭遇许多障碍。全球半导体微影设备制造大厂、荷兰光刻机巨头艾司摩尔（ASML）近日表示，对中国出口设备仍未获得荷兰政府许可。该公司CEO彼得．温尼克（Peter Wennink）说，中国如果要尝试独立开发顶尖的光刻机技术，至少需要10年才能做得到。

据《路透》报导，彼得．温尼克日前受访时表示，公司迄今仍未获得许可，不能将任何最先进光刻系统运往中国。中国当然可以尝试开发制造大型精密光刻机的技术，但他不认为中国可以独立复制顶级光刻技术。他还强调，ASML所依赖的是「不懈的创新」，而且组件只能从中国以外的供应商获得。

报导引述分析师的话称，由于美国施压，荷兰政府因此拒绝授予ASML 出口先进光刻机系统的许可证。而没有 ASML的最先进光刻机，中国恐怕难以生产高阶晶片，如果要自行开发相关技术与设备，估计中国至少需要10年才能自主制造顶尖的EUV光刻机。

ASML是目前全球最顶尖的光刻系统制造商，市占率超过60%以上，据该公司2021年第2季度财报显示，艾司摩尔前3大设备出货地分别是南韩（39%）、台湾（36%）、中国（17%），当季该公司一共出货72套光刻系统（包括9台EUV）。