ETO：中国对下一代芯片制造技术研究是美国两倍

美国全力防止中国取得高科技芯片和设备，但似乎成效不彰，根据《Tomshardware》报导，美国的干预似乎正在产生反作用，根据新兴技术观察站（ETO）最近的一项研究，中国对下一代芯片制造技术的研究，是美国的两倍多，在此趋势下，中国可能在新兴芯片技术领域超越美国。

ETO的新研究发现，回顾2018年至2023年期间，全球共发表47.5万篇跟芯片设计和制造有关的文章。其中，34%的作品由中国机构制作，美国和欧洲仅为15%、18%。

分析这类研究论文，虽然芯片技术制造领域并不像人工智慧和法学硕士等热门，但从中国发布的相关研究报告数量来看，显示正全力研究下一代芯片技术。

值得关注的是，中国的芯片研究报告内容和质量并不低，观察被引用次数最高的前10%论文，中国贡献比例高达50%，美国与欧洲则为22%和17%。其他国家的研究数量或引用比例，都远不及中国水准。

乔治敦大学ETO首席分析师Zachary Arnold分析，虽然这份研究结果并不代表中国目前在该领域的领先，但在不久后的将来，中国在新兴芯片技术领域可能超越美国。