荷兰宣布限制DUV光刻机对中国出口新规则9月生效

荷兰政府周五（30日）宣布，限制部分先进半导体制造设备出口的新规定于9月1日生效。该规定被认为旨在阻止艾司摩尔（ASML）的先进光刻机出口到中国。美国据报亦正研究新的出口管制，可能在7月公布。北京对事件表示密切关注，批评美方胁迫其他国家对华搞科技封锁，干预企业之间的正常经贸往来。

综合外媒报导，荷兰贸易部制定的新措施要求生产先进芯片制造设备的公司在出口前申请许可证，贸易部长史赖内马赫（Liesje Schreinemacher）表示，荷方的举措是为了维护国家安全，但是令人高兴的是，有关公司现在知道自己的立场，他们能够及时调节新措施。

ASML随后发表声明指，根据新措施，深紫外光（DUV）光刻机的出口将需向荷兰政府申请许可，由后者决定是否授予或拒绝批准，受限产品包括Twinscan NXT:2000i及后继型号。ASML将继续出口法规，包括荷兰、欧盟和美国的法例。声明又提到，极紫外光（EUV）光刻机先前已限制出口，其他产品尚未受限。

报导说，美国也制定新的出口管制措施，可能7月下旬公布，预计向6家中国芯片企业设限，美企向这些公司提供设备时亦需先获得许可，申请有可能被拒绝，当中包括中国最大芯片制造商中芯国际（SMIC）。美国规定将适用于全球，ASML也包含在内，因该公司系统使用美国零件。

ASML在全球EUV和DUV光刻机生产上具有垄断地位，一旦受限，中国40nm以下制程的各种芯片，包括DRAM、NAND Flash生产都将受到冲击。

中国外交部发言人毛宁表示，中方将密切关注有关动向，坚决维护自身的合法权益。中方一贯反对美方泛化国家安全概念，滥用出口管制，以各种借口拉拢、胁迫其他国家对华搞科技封锁，以行政手段干预企业之间的正常经贸往来，严重破坏市场规则和国际经贸秩序，冲击全球产供链的稳定，不符合任何一方的利益。